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Jun 17, 2023

Bis 2028 wird der Lithografiemarkt für extremes Ultraviolett (EUV) 25,3 Milliarden US-Dollar wert sein

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7. Juli 2023, 11:00 Uhr ET

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CHICAGO, 7. Juli 2023 /PRNewswire/ -- Laut einem neuen Bericht von MarketsandMarkets wird der Markt für EUV-Lithografie bis 2028 voraussichtlich 25,3 Milliarden US-Dollar erreichen, verglichen mit 9,4 Milliarden US-Dollar im Jahr 2023, bei einer jährlichen Wachstumsrate von 21,8 % im Zeitraum 2023–2028 ™. Viele Halbleiterunternehmen investieren in EUV-Lithografiesysteme und -geräte, was eine Wachstumschance für den EUV-Lithografiemarkt bietet. Der EUV-Lithographiemarkt befindet sich derzeit in der Entwicklungsphase, da mehrere Akteure präsent sind, die EUV-Ausrüstung anbieten. Der asiatisch-pazifische Raum dürfte erheblich zum Wachstum des EUV-Lithografiemarktes beitragen. Ebenso wird erwartet, dass Amerika und Europa im prognostizierten Zeitraum die Wachstumsmärkte sein werden.

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120 – Tabellen50 – Abbildungen 180 – Seiten

Umfang des Extrem-Ultraviolett-(EUV)-Lithographie-Marktberichts:

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Einzelheiten

Marktumsatz im Jahr 2023

9,4 Milliarden US-Dollar

Geschätzter Wert bis 2028

25,3 Milliarden US-Dollar

Wachstumsrate

Voraussichtlich mit einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate von 21,8 % wachsen

Verfügbare Marktgröße für

2019–2028

Prognosezeitraum

2023–2028

Prognoseeinheiten

Wert (Mio. USD/Milliarde)

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Umsatzprognose, Wettbewerbslandschaft, Wachstumsfaktoren und Trends

Abgedeckte Segmente

Nach Ausrüstung, Endbenutzer und Region

Abgedeckte Regionen

Nordamerika, Europa, Asien-Pazifik und Rest der Welt

Wichtigste Marktherausforderung

Quellenleistung und Produktivität in der EUV-Lithographie stellen eine Herausforderung für den Markt dar

Wichtige Marktchancen

Fortschrittliche Speicherentwicklung für Speichergeräte der nächsten Generation

Wichtige Markttreiber

Steigende Komplexität des integrierten Schaltkreises

Es wird erwartet, dass das Segment der extrem ultravioletten (EUV) Lichtquellen im Prognosezeitraum mit der höchsten CAGR des Marktes für EUV-Lithographiegeräte wachsen wird.

Die EUV-Lithographie-Lichtquelle ist eine wichtige Komponente, die in EUV-Lithographiesystemen in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Die derzeit vorherrschende Technologie zur Erzeugung von EUV-Licht ist lasererzeugtes Plasma (LP). Ein prominentes Beispiel einer solchen LP-EUV-Lichtquelle ist die von ASML, einem führenden Hersteller von Halbleitergeräten, entwickelte. Die LP-EUV-Lichtquelle von ASML verwendet einen Hochleistungs-Pulslaser, um Zinntröpfchen (Sn) oder einen dünnen Zinnfilm zu bestrahlen. Die intensive Laserenergie erhitzt und verdampft das Zinnmaterial schnell, wodurch ein Plasma entsteht. Während das Plasma abkühlt und rekombiniert, emittiert es EUV-Licht mit einer Wellenlänge von etwa 13,5 Nanometern. Dieser Prozess ist unerlässlich, um eine fortschrittliche Halbleiterfertigung mithilfe der EUV-Lithographietechnologie zu ermöglichen.

Mehrere Unternehmen bauen ihr Geschäft mit EUV-Lichtquellen aus. Beispielsweise gab Energetiq Technology Inc. im Dezember 2022 bekannt, dass das Unternehmen ein eigenes Geschäftssegment für EUV-Lichtquellenprodukte schafft. Das neue EUV-Geschäftssegment des Unternehmens wird unter der Leitung des EUV-Geschäftsführers für die Zusammenstellung des gesamten Kernpersonals in den Bereichen Technologie, Technik, Marketing, Außendienst und Betrieb verantwortlich sein.

IDM wird voraussichtlich ein deutliches Wachstum im EUV-Lithografiemarkt verzeichnen.

Ein IDM (Integrated Device Manufacturer) ist ein Unternehmen, das den gesamten Prozess der Entwicklung, Herstellung und Vermarktung integrierter Schaltkreise oder Chips intern abwickelt. Im Kontext der EUV-Lithographie würde ein auf diese Technologie spezialisierter IDM die volle Verantwortung für alle Aspekte im Zusammenhang mit der EUV-Lithographie übernehmen, angefangen beim Entwurf und der Entwicklung von EUV-Lithographiesystemen bis hin zur Herstellung integrierter Schaltkreise unter Verwendung der EUV-Lithographietechnologie. Als IDM im Bereich EUV-Lithographie verfügt das Unternehmen über Fachwissen sowohl im EUV-Lithographie-Systemdesign als auch in der Halbleiterfertigung. Sie würden in Forschung und Entwicklung (F&E) investieren, um die EUVL-Technologie voranzutreiben, ihre Leistung zu optimieren und den Herstellungsprozess zu verbessern. In der Regel betreiben IDMs ihre eigenen Fertigungsanlagen, die mit EUV-Lithographiesystemen ausgestattet sind, um Chips mit dieser fortschrittlichen Technologie herzustellen.

Die EUV-Lithographie spielt eine entscheidende Rolle in der Halbleiterfertigung, und auf die EUVL-Technologie spezialisierte IDMs spielen eine Schlüsselrolle dabei, ihre Einführung voranzutreiben und die Grenzen der Fähigkeiten integrierter Schaltkreise zu erweitern. Diese Unternehmen tragen zur Entwicklung modernster Halbleiterbauelemente bei, indem sie die Vorteile der EUV-Lithographie nutzen.

ASML ist ein Lieferant von EUV-Lithographietechnologie und -systemen für IDMs (Integrated Device Manufacturers), während andere Unternehmen wie Carl Zeiss AG, TOPPAN Inc. und NTT Advanced Technology Corporation ebenfalls aktiv an der Entwicklung von Lithographiegeräten, einschließlich EUV-Lithographie, beteiligt sind Optik, Lichtquellen, Masken, Messwerkzeuge, Sensoren und EUV-Lithographie-Unterbaugruppenprodukte.

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Es wird erwartet, dass Südkorea mit der höchsten CAGR in der Region Asien-Pazifik wächst.

Südkorea spielt eine wichtige Rolle bei der Weiterentwicklung und Einführung der EUV-Lithographie (Extreme Ultraviolet). Das Land ist bekannt für seine starke Präsenz in der globalen Halbleiterindustrie mit großen Playern wie Samsung und SK HYNIX INC. Diese Unternehmen haben aktiv in die EUV-Technologie investiert und diese in ihre Herstellungsprozesse integriert. Samsung hat bedeutende Fortschritte in der EUV-Lithographie gemacht und nutzt sie zur Herstellung modernster Halbleiterchips. Mit seinem technologischen Fachwissen, seinen Forschungs- und Entwicklungskapazitäten und seinen erheblichen Investitionen in die EUV-Infrastruktur trägt Südkorea zur weiteren Entwicklung und weit verbreiteten Implementierung der EUV-Lithographie bei und treibt Innovationen in der Halbleiterindustrie voran.

Im März 2023 kündigte Samsung seinen Plan an, in den nächsten zwei Jahrzehnten 230 Milliarden US-Dollar in einen Megacluster für die Halbleiterproduktion in Südkorea zu investieren. Der neue Campus in der Nähe von Yongin wird über fünf moderne Fabriken verfügen und soll Südkorea zum weltweit größten Chipproduzenten machen. Die Einrichtungen werden Lithographiescanner für extremes Ultraviolett (EUV) nutzen und so zur Einführung modernster Fertigungstechnologien beitragen.

Im Prognosezeitraum wird der asiatisch-pazifische Raum voraussichtlich mit der höchsten Wachstumsrate wachsen.

Die Region Asien-Pazifik spielt eine bedeutende Rolle im Bereich der EUV-Lithographie (Extreme Ultraviolet), einer fortschrittlichen Technologie, die in der Halbleiterfertigung eingesetzt wird. Bei der Bewertung der Lithografieindustrie im extremen Ultraviolett (EUV) in dieser Region werden Länder wie China, Japan, Taiwan, Südkorea und andere Teile des asiatisch-pazifischen Raums einbezogen. Die starke Präsenz von Chipherstellern in diesen Bereichen führt zu einer hohen Nachfrage nach EUV-Lithographie und trägt zu deren kontinuierlicher Weiterentwicklung und Optimierung bei. Darüber hinaus verfügt die Region Asien-Pazifik über einen großen Markt für Unterhaltungselektronik, darunter Smartphones, Tablets und verschiedene elektronische Geräte. Der wachsende Bedarf an kleineren, schnelleren und energieeffizienteren Halbleitern treibt die Einführung fortschrittlicher Lithographietechnologien wie EUV voran. Die EUV-Lithographie ermöglicht die Herstellung hochdichter und leistungsstarker Chips, die für die Erfüllung der Anforderungen des Unterhaltungselektronikmarktes im asiatisch-pazifischen Raum von entscheidender Bedeutung sind.

Schlüsselfiguren

Der Bericht stellt Schlüsselakteure von Lithografieunternehmen für extremes Ultraviolett (EUV) wie ASML (Niederlande), Carl Zeiss AG (Deutschland), TOPPAN Inc. (Japan), NTT Advanced Technology Corporation (Japan), KLA Corporation (USA) und ADVANTEST CORPORATION vor (Japan), Ushio Inc. (Japan), SÜSS MicroTec SE (Deutschland), AGC Inc. (Japan), Lasertec Corporation (Japan), NuFlare Technology (Japan), Energetiq Technology Inc. (USA), Photronics, Inc.( USA), HOYA Corporation (Japan), TRUMPF (Deutschland), Rigaku Corporation (Japan), Edmund Optics Ltd. (USA), Park Systems (Korea), Zygo Corporation (USA), Imagine Optic (USA) und Applied Materials, Inc .(UNS).

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